購入 MKT1820422105とBYCHPS
保証付きで購入する
MKT1820422105
- 部品型番:
- MKT1820422105
- メーカー:
- Angstrohm / Vishay
- 説明:
- CAP FILM 0.22UF 10% 1KVDC RADIAL
- フリーステータス/ RoHS状態:
- 鉛フリー/ RoHS準拠
- 在庫数量:
- 17995 Pieces
簡潔な
BYCHIPSは、 MKT1820422105、我々はすぐに出荷するための株式を持っており、また、長い時間の供給が可能です。あなたの購入計画をお送りください MKT1820422105をメールでお送りします。
規格
| 定格電圧 - DC: | 1000V (1kV) |
|---|---|
| 定格電圧 - AC: | 220V |
| 公差: | ±10% |
| 終了: | PC Pins |
| サイズ/寸法: | 1.240" L x 0.532" W (31.50mm x 13.50mm) |
| シリーズ: | MKT1820 |
| パッケージング: | Bulk |
| パッケージ/ケース: | Radial |
| 他の名前: | 1820422105 |
| 運転温度: | -55°C ~ 125°C |
| 装着タイプ: | Through Hole |
| 水分感受性レベル（MSL）: | 1 (Unlimited) |
| メーカーの標準リードタイム: | 16 Weeks |
| 製造元の部品番号: | MKT1820422105 |
| リード間隔: | 1.083" (27.50mm) |
| 高さ - 着席（最大）: | 0.925" (23.50mm) |
| 特徴: | - |
| 拡張された説明: | 0.22µF ±10% Film Capacitor 220V 1000V (1kV) Polyester, Metallized Radial |
| ESR（等価直列抵抗）: | - |
| 誘電材料: | Polyester, Metallized |
| 説明: | CAP FILM 0.22UF 10% 1KVDC RADIAL |
| キャパシタンス: | 0.22µF |
| アプリケーション: | DC Link, DC Filtering |
| Email: | [email protected] |
同様のモデルのMKT1820422105
最新ニュース
- Xilinx Ships Industry's First 16nm All Programmable MPSoC Ahead of Schedule
- Xilinx and Samsung Jointly Enable the World's First 5G NR Commercial Deployment
- TI to reduce costs in Wireless business; OMAP™ processors and wireless connectivity solutions will focus on embedded markets
- TI's Peter Balyta to head Education Technology division; Melendy Lovett to retire
- Janet Clark to join TI board of directors
- TI unveils DLP® 0.66-inch 4K ultra-high definition (UHD) chip, enabling more affordable large screen projection displays for home, business and education
- GCHQ Director calls for international cyber pact
- Embedded World: Arm introduces fourth security element to PSA
- Last chance: Nominate BrightSparks before 28 February
- Embedded World 2019: Get the full Electronics Weekly Guide
- "Xcell Journal" Special Edition: Xilinx Customers Shape a Brilliant Future
- Xilinx Launches Public Access of the SDSoC Development Environment to Expand Zynq SoC User Base to Broad Community of Systems and Software Engineers